据中国激光杂志社网，于2025年10月16日报道，想象一支能在发丝上“作画”的神笔，笔尖流淌的不是墨水，而是聚焦的紫外激光，精准雕刻出微纳世界的奇妙结构。在不久前落幕的第26届中国国际光电博览会上，国产科技力量就将这样的想象照进现实——玉之泉AOD紫外激光直写光刻系统惊艳亮相，并以极高的精细度与稳定性，迅速成为全场瞩目的焦点。（“重磅|玉之泉AOD紫外激光直写光刻系统首发亮相倒计时”）

玉之泉AOD紫外激光直写光刻系统不仅突破了传统掩模加工的限制，展示了研发周期和成本控制上的明显优势，更以其高度的灵活性和智能化水平，精准契合了半导体、生物医疗、微光学等工业市场前沿领域对复杂微纳结构快速原型验证和批量定制的需求。它的成功推出，打破了全球市场中欧美设备的技术垄断格局，是国产高端设备在关键技术指标上对标国际先进水平的一次有力实践，也为相关行业的创新研发与产业化应用提供了坚实且可靠的工具支撑。

它究竟有何过人之处？让我们一同揭开这款“神笔”背后的技术密码。

一、核心技术性能

01、超精细

系统搭载高分辨写头，最小特征尺寸可达250 nm，能够精准构建细微复杂结构，广泛适配关键应用场景。

02、高稳定

系统配备光学实时自动对焦功能，自动对焦范围达100 μm，为工艺稳定性提供核心保障。

03、高效率

系统支持多通道并行加工，可根据不同任务灵活分配通道，进一步提供加工能力。

04、超灵活

系统配置多倍率写头，性能参数表现亮眼，既能适配大面积加工任务，又能满足小批量定制需求。

二、系统兼容性与扩展性

01、宽域工艺适配能力

光源适配：玉之泉AOD紫外激光直写光刻系统采用405 nm或375 nm紫外光源，兼容不同光敏材料工艺。

基板兼容：可支持9英寸基板，厚度覆盖0.1 ~15 mm，能够在不同类型基板上制作复杂微米级图形。

02、精密加工与创新拓

精确控制激光曝光：玉之泉AOD紫外激光直写光刻系统最大曝光面积达200 mm × 200 mm，温度稳定性控制在±0.1°，灰度等级高达4096级。

高效加工模式：玉之泉AOD紫外激光直写光刻系统支持多通道扩展，进一步提高了加工能力。

03、全域焦点稳定性能

大范围精准焦控：系统支持100 µm的自动对焦范围，能实时探测样品表面的高度变化，保证在整个扫描写图过程中光斑大小和能量恒定，从而获得全场一致的高精度图形。

实时焦面稳定控制：实时监测并修正电机发热、温度变化导致的焦平面漂移，保障连续加工中，首片与末片晶圆的焦距精度一致，CD均匀性在高倍率下仍控制在50 nm内。

三、智能化加工体系

01、脚本化刻写,支持自定

自由多样化的图形生成：支持用户编写生成任何数学上可描述的图形，灵活应对科研创新与小众工艺需求。

灵活的动态调控：可在曝光过程中根据位置、时间或其他动态改变曝光剂量、扫描速度等，实现灰度曝光或特殊效果。

02、多格式兼容与自动化集成

适配性强：刻写与切片软件兼容JPG、TIFF、GDS等多种格式，无缝衔接主流设计工具。

流程自动化：支持Python、LabVIEW等语言编写脚本，一键实现自动换基板、分区曝光、日志保存等操作。

四、广泛应用价值

01、半导体制造领域

玉之泉所研发的AOD紫外激光直写光刻系统无需掩模，可直接刻写复杂电路图形，大幅缩短研发周期并降低生产成本。其支持的多通道扩展功能，可适用于掩模版的批量定制与高端原型开发，为集成电路和微电子器件创新提供强有力支撑。

02、微流控与生物医疗领

玉之泉AOD紫外激光直写光刻系统表现出优异的高深宽比微通道加工能力，可精准制作微流控芯片的复杂多层通道网络、生物芯片与传感器所需的微阵列结构，推动生物芯片、细胞操控、精准医疗等关键技术发展，满足高通量筛选和即时诊断设备的严苛需求。

03、微光学元件与AR/VR器件制造领域

系统具备加工衍射光栅、微透镜阵列等复杂光学结构的能力，边缘平滑度高、形貌控制精准，可支撑激光整形、光谱仪等光学元件开发，适配增强现实（AR）、虚拟现实（VR）等设备对超薄高精度光学元件的需求。