会员注册 会员登陆
用户名
密 码
记注密码   忘记密码?
欢迎您访问激光与红外网! Welcome to LASER & INFRARED!
  明星企业
 
  支持单位
  展会专题
·中国电科举办集成电路核心...
·第四届新型光电探测技术及...
·“军队-2017”国际军事技术...
·Light Conference2017 在长...
·第八届中国无人机大会暨展...
·“ 中国防务 ” 亮相第十三...
·中科院对地观测部 参加第一...
·在 CES2017 上TriLumina 将...
·无人机系统及任务设备展览...
  业界访谈
·打破国外技术封锁 激光钕玻...
·徐匡迪院士获光华工程科技...
·著名高功率激光技术专家林...
·喜报:实现航天红外器件自...
·中国遥感应用智慧产业创新...
·96年博士生连发两篇Nature...
·湖北军民融合激光产业联盟...
·光电股份科研定型传捷报 科...
·访“天使粒子”发现者、美...
·与世界公认技术难题较劲,...
·航天科技八院控制所先进光...
  技术动态    
亟待攻克的技术 中国半导体产业因光刻胶失色
作者:cmh        来源:科技日报 
日期:2018-06-02    阅读次数:154
副标题:

         “假如我们把光刻机比作一把菜刀,那么光刻胶就好比是要切割的菜,没有高质量的菜,即使有了锋利的菜刀,也无法做出一道佳肴。”日前,江苏博砚电子科技有限公司技术部章宇轩在接受科技日报记者采访时说。        
         在北京化工大学理学院院长聂俊眼里,我国虽然已成为世界半导体生产大国,但面板产业整体产业链仍较为落后。目前,上游高端电子化学品(LCD用光刻胶)几乎全部依赖进口,必须加快面板产业关键核心材料基础研究与产业化进程,才能支撑我国微电子产业未来发展及国际“地位”的确立。        
         彩色薄膜少了光刻胶,产生不了绚丽的画面        
         显示器是人与机器沟通的重要界面。光刻胶是整个光刻工艺的重要部分,也是国际上技术门槛最高的微电子化学品之一,主要应用在集成电路和平板显示两大产业。光刻技术决定了集成电路的集成度,引领了技术节点的推进和实现。        
         章宇轩介绍,我们在日常工作生活中,之所以能从显示屏幕上看到色彩斑斓的画面,就是离不开屏幕中厚度只有 2μm、却占面板成本 16% 的一层彩色薄膜。然而,彩色薄膜颜色的产生,必须由光刻胶来完成。        
         LCD是非主动发光器件,其色彩显示必须由本身的背光系统或外部的环境光提供光源,通过驱动器与控制器形成灰阶显示,再利用彩色滤光片产生红、绿、蓝三基色,依据混色原理形成彩色显示画面。        
         其中,根据颜色的不同,可以将光刻胶分为黑色、红色、绿色、蓝色四种。彩色滤光片的制作就是在玻璃基板上应用黑色光刻胶制作黑色矩阵,再应用红、绿、蓝光刻胶制作三原色像素。        
         光刻胶的研发,关键在于其成分复杂、工艺技术难以掌握。光刻胶主要成分有高分子树脂、色浆、单体、感光引发剂、溶剂以及添加剂,开发所涉及的技术难题众多,需从低聚物结构设计和筛选、合成工艺的确定和优化、活性单体的筛选和控制、色浆细度控制和稳定、产品配方设计和优化、产品生产工艺优化和稳定、 最终使用条件匹配和宽容度调整等方面进行调整。因此,要自主研发生产,技术难度非常之高。        
         江苏汉拓光学材料有限公司副总经理孙友松告诉记者,在光刻胶研发上,我国起步晚,2000年后才开始重视。近几年,虽说有了快速发展,但整体还处于起步阶段。事实上,工艺技术水平与国外企业有着很大的差距,尤其是尖端材料及设备都仍依赖进口。        
         工艺技术难以突破,国内企业受制于人        
         “造成与国际先进水平差距的原因很多。过去由于我国在开始规划发展集成电路产业上,布局不合理、不完整,特别是重生产加工环节的投资,而忽视了最重要的基础材料、装备与应用研究。 目前,整个产业是中间加工环节强,前后两端弱, 核心技术至今被 TOK、JSR、住友化学、信越化学等日本企业所垄断。 ”江苏博砚电子科技有限公司负责销售的经理李中强说。       
、         记者了解到,光刻胶的主要技术指标有解析度、显影时间、异物数量、附着力、阻抗等。每一项技术指标都很重要,必须全部指标达到才能使用。因此,国外企业在配方、生产工艺技术等方面,对中国长期封锁。        
         事实上,我国是在缺乏经验、缺乏专业技术人才,缺失关键上游原材料的条件下,全靠自己摸索。近年来,尽管光刻胶研发有了一定突破,但国产光刻胶还是用不起来。目前,国外阻抗已达到15次方以上,而国内企业只能做到10次方,满足不了客户工艺要求和产品升级的要求,有的工艺虽达标了,但批次稳定性不好。        
         “10次方的光刻胶经过多次烘烤,由于达不到客户需求的防静电作用,不能应用到最新一代窄边框、全面屏等高端面板上。而国外做到15次方就有了很好的防静电作用。这还是我们的光刻胶材料、配方、生产工艺方面存在问题。”李中强说。        
         关键指标达不到要求,国内企业始终受制于人。就拿在国际上具有一定竞争实力的京东方来说,目前已建立17个面板显示生产基地,其中,有16个已经投产。但京东方用于高端面板的光刻胶,仍然由国外企业提供。        
         基础性研究仍需发力,政府要重视鼓励应用牵引        
         能让显示屏幕绚丽多彩的光刻胶,仍是中国半导体产业之“痛”。该如何打破欧美及日本等国家和地区的封锁与垄断?        
         业内人士认为,按照现在“单打独斗”的研发路径,肯定不行。政府相关部门要加大产业政策的配套支持力度,应从加快完善整个产业链出发,定向梳理国内缺失的、产业依赖度高的关键核心电子化学品,要针对电子化学品开发难度高,检测设备要求高的特点,组织汇聚一些优势企业和专家,形成一个产业联盟,国家建立一个生产应用示范平台,集中力量突破一些关键技术。        
         江苏博砚电子科技有限公司董事长宗健表示,光刻胶要真正实现国产化,难度很大。最大问题是国内缺乏生产光刻胶所需的原材料,致使现开发的产品碳分散工艺不成熟、碳浆材料不配套。而作为生产光刻胶最重要的色浆,至今依赖日本。前道工艺出了问题,保证不了科研与生产, 光刻胶国产化就遥遥无期。因此, 必须通过科研单位、 生产企业的协同创新,尽快取得突破。        
         有专家提出,尽管国产光刻胶在高端面板一时用不起来,但政府还是要从政策上鼓励国内普通面板的生产企业尽快用起来。只有在应用过程中才能发现问题,解决问题,不断提升技术、工艺与产品水平,实现我国关键电子化学品材料的国产化,完善我国集成电路的产业链,满足国家和重点产业的需求。       

    
发表评论  
姓名: 匿名
主题:
请点击查看全部评论!  注册新用户
  产经透视
 
·中国航天科工第一支创业板公司锐科激光成功上...
·一种用于红外化学成像的新型激光源:有望助力...
·国内激光电视风风火火:核心光源竟掌握在这两...
·IBM就激光剥离技术与EVG达成许可协议
 
  产业资讯
 
·美陆军研发搭载于战术车辆上的防空激光器
·雷神公司与洛马竞标美陆军车载高能激光武器项...
·法国“幻影”2000D成功试射BAT-120激光制导炸...
·美国陆军在反无人机项目上加大投资
 
   
  技术动态
 
·DARPA寻求下一代系统级芯片(SoC)设计技术
·美国采用新型硅芯片演示了光学神经网络
·新方法制造柔性透明的多功能传感器阵列
·新方法制造柔性透明的多功能传感器阵列
 
  技术专题
 
·无人机系统发展呈现新趋势
·《npj-柔性电子》综述:硅基超薄芯片面面观
·激光清洗技术:武器装备“返老还童”的美容师...
·神奇!石墨烯扭转“角度”可变超导体
 
 
首页 激光与红外杂志 产业报道 光电技术 企业展台 产品展示 供求市场 展会专题 最新公告 关于我们
您是 位访问者